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タグ： リソグラフィー

NATOの前震がオランダを通って中国まで深く及ぶ

防衛
ドナルド・トランプ前米国大統領が最近、貢献していないNATO加盟国を攻撃するようロシアに招待した前例のないことに対する非難は静まった。

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中国、政府のコンピューターでのインテルチップの使用を阻止

ブロックチェーン
中国政府のガイドラインは当局や政府機関に対し、マイクロソフトのウィンドウズオペレーティングシステムなど外国製のソフトウェアを選択するのではなく、国産ソフトウェアを使用するよう勧告している。フィナンシャル・タイムズは、中国が...

偽造を防止する高度なホログラム保護

ナノテクノロジー
19 年 2024 月 XNUMX 日 (Nanowerk ニュース) さまざまな書類、紙幣、チケットの偽造は、日常生活で遭遇する可能性がある一般的な問題です。

ナノデバイスは水道水や海水の蒸発からエネルギーを生成できる |エンバイロテック

クリーンテック
研究者らは、ナノスケールのデバイスが水力発電効果を利用していることを発見したと述べています...

SPIE 光あれ!ハイNAキックオフ！サムスンの減速? 「急速な」衰退？ – セミウィキ

半導体
– 高NA EUVのカミングアウトパーティー – アングストローム時代の「夜明け」 – 出席者は多く、前向きな雰囲気、目新しいものはあまりないが、良い進歩 – 懸念事項...

調整可能な低損失異方性ポラリトニクスのためのファンデルワールス四級酸化物 – Nature Nanotechnology

ナノテクノロジー
Halasyamani, PS & Poeppelmeier, KR 非中心対称酸化物。化学。メーター。 10、2753–2769 (1998)。記事 CAS ...

動的な構造色を実現する毛細管相互作用による液体ガリウムナノ粒子の単一ステップ製造 – Nature Nanotechnology

ナノテクノロジー
Tittl, A. ディスプレイ上の調整可能な構造色。光科学。応用11、155 (2022).記事 CAS PubMed ...

高NA EUVを可能にする計算リソグラフィーソリューション

半導体
このホワイト ペーパーでは、高 NA 極紫外 (EUV) リソグラフィの開発、最適化、実装をサポートするために必要な計算ニーズを特定し、説明します。

RDL での収量追跡

半導体
最大 24 の RDL レイヤーを含む可能性があるパネル レベルのパッケージに関しては、歩留まりがはるかに大きな問題になります。欠陥を見つけるだけです...

ナノマテリアル産業向けのスピンエレクトロスピニングとエレクトロスプレーの積極的な相乗効果

ナノテクノロジー
01 年 2024 月 XNUMX 日 (Nanowerk ニュース) これら XNUMX つの双子の技術、エレクトロスピニングとエレクトロスプレーを組み合わせて新しいナノ材料を製造することは、材料科学者にとって緊急の研究分野です...

OpenAI のサム・アルトマン氏、AI チップ製造業界の革命を目指す

AI
報道によると、OpenAIのCEOであるサム・アルトマン氏は、AIチップ工場のネットワークを確立するために数十億ドルを調達するという画期的な取り組みに乗り出しているという。アルトマンの…

メタレンズは、プールヌードルやサーフボードのような形をした薄暗い星雲、銀河を画像化します – Physics World

量子
ハーバード大学のフェデリコ・カパッソを多作な研究者として説明するのは控えめな表現であり、私はフォトニクスにおける彼の研究を長年追いかけてきました。

EUVリソグラフィーシステムにおける非EUV露光は、EUVリソグラフィーにおける確率的欠陥の下限を提供する – Semiwiki

半導体
EUV リソグラフィーは、最終イメージの生成に影響を与える多くの要因を伴う複雑なプロセスです。 EUV光自体は直接光を生成しません...
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