Zephyrnet-Logo

Etikett: MEMS

CEO-Interview: Stephen Rothrock von ATREG – Semiwiki

Stephen Rothrock gründete ATREG im Jahr 2000, um globalen Spitzentechnologieunternehmen dabei zu helfen, infrastrukturreiche Produktionsanlagen zu veräußern und zu erwerben. In den letzten 25 Jahren hat seine Firma...

Bessere Brücken in fortschrittlicher Verpackung bauen

Die zunehmenden Herausforderungen und steigenden Kosten der Logikskalierung sowie die Nachfrage nach immer mehr Funktionen drängen immer mehr Unternehmen in fortschrittliche...

Rückblick auf die Woche der Chipindustrie

Von Liz Allan, Jesse Allen und Karen Heyman Die weltweiten Abrechnungen für Halbleiterausrüstung gingen im zweiten Quartal im Jahresvergleich um 2 % auf 25.8 Milliarden US-Dollar zurück und sanken um 2 % im Vergleich zu...

ams OSRAM liefert vormontierte RGB-Laserdioden für TriLite

News: Optoelektronik 7. September 2023 Es wurde eine Technologiekooperation angekündigt, bei der ams OSRAM GmbH aus Premstätten, Österreich und München, Deutschland...

Modellierung stochastischer EUV-Defekte mit sekundärer Elektronenunschärfe – Semiwiki

Es wird oft dargestellt, dass die Lithographie im extremen Ultraviolett (EUV) von der Wellenlänge von 13.5 nm profitiert (tatsächlich handelt es sich um einen Wellenlängenbereich, meist ~13.2–13.8 nm), ...

Neuartige Metamaterialien nutzen die Knickung, um die Schwingungsdämpfung zu revolutionieren

02. August 2023 (Nanowerk Spotlight) Alle mechanischen Systeme weisen Schwingungsresonanzen auf, bei denen die Energieübertragung durch die Struktur bei bestimmten Eigenfrequenzen Spitzenwerte aufweist. Diese Resonanz...

X-FAB leitet das EU-finanzierte Projekt photonixFAB zur Industrialisierung der europäischen Silizium-Photonik-Wertschöpfungskette

News: Optoelektronik 15. Juni 2023 X-FAB Silicon Foundries SE aus Tessenderlo, Belgien, ist eine Gießerei für analoge/digitale (Mixed-Signal) integrierte Schaltkreise, mikroelektromechanische Systeme (MEMS) und Spezialhalbleiter.

Eine Einführung in die EUV-Lithographie – Semiwiki

Extrem-Ultraviolett-Lithographiesysteme (EUV) sind die fortschrittlichsten Lithographiesysteme, die heute im Einsatz sind. Dieser Artikel ist eine grundlegende Einführung in dieses noch wichtige Thema...

Drop Mems: Mingle: Vertraute Momente aus Mems Project

Erinnern Sie sich an die „Love is…“-Kaugummis, deren Einlagen so unterschiedliche, aber nahe und vertraute Momente von Liebenden widerspiegelten? Dann das...

Realitätsprüfungen für EUV mit hoher NA für 1.x-nm-Knoten

Der „1.xnm“-Knoten auf den meisten Roadmaps zeigt einen Metallleitungsabstand von 16–18 nm an . Der Abstand von Mitte zu Mitte kann erwartet werden, wie ...

Forschungsbits: 4. April

Nasses Plasmaätzen Forscher der Universität Nagoya und von Hitachi entwickelten ein neues Ätzverfahren namens Nasses Plasmaätzen, das die Selektivität von Nassplasmaätzen kombiniert.

Zuverlässige Sensortechnologie für das Internet der Dinge

„Daten sind das neue Öl“ – Clive Humby, 2006 Während sich diese Vorhersage auf den Wert bezieht, der aus Daten generiert werden kann, liegt der Fokus...

Neueste Intelligenz

spot_img
spot_img