「原子/分子層堆積プロセスの迅速なスクリーニングのための高スループット多重リアクター設計」というタイトルの技術論文がワシントン大学の研究者によって発表されました。
要約：
「高スループットの多重原子層堆積/分子層堆積 (ALD/MLD) スタイルのリアクターで複数の同時堆積を実行するアプローチが実証されました。このようなシステムでは、ポンプや反応物質マニホールドなどの共有リソースに複数の反応チャンバーを接続することで、独立したプロセスを並行して実行できます。共有リソースの適切な制御システムは、真空またはキャリアガスでの蒸着を可能にしながら、蒸着パラメータと結果として得られる膜の独立性を維持します。システム例が構築され、偏光解析法と X 線光電子分光法を使用して検証されたように、相互汚染を回避しながらプロセスの均一性を示すことが示されています。このリアクター設計により、同数の独立したシステムにかかる資本コストをかけずに、典型的な 1 チャンバー システムよりも迅速に新しい ALD/MLD 成膜プロセスをスクリーニングできるため、ナノテクノロジーの革新のペースが加速します。」
見つける テクニカルペーパーはこちら。 2024 年 XNUMX 月発行。
ユリ・チョー、ダンカン・リース、デイビッド・S・バーグスマン。原子/分子層堆積プロセスを迅速にスクリーニングするための高スループット多重リアクター設計。 Ｊ．Ｖａｃ．科学。テクノロジー。 A 1 年 2024 月 42 日。 2 (022402): 10.1116. https://doi.org/6.0003354/XNUMX
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ナレッジ センター: 原子層堆積 (ALD)
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- 情報源： https://semiengineering.com/performing-multiple-simultaneous-depositions-in-a-high-throughput-multiplexing-ald-mld-style-reactor/
