– Festa de lançamento do High NA EUV – “Dawn” da Era Angstrom
– Boa participação, vibrações positivas, poucas novidades, mas bom progresso
– Preocupações com a Samsung desacelerando os gastos enquanto a Intel acelera
– Dilema da inspeção de retículos KLA – Negócio arriscado na China
SPIE foi uma festa de “apresentação” da Alta NA
Consideraríamos a conferência SPIE 2024 deste ano como o lançamento oficial da tecnologia High-NA EUV, tanto figurativamente como na realidade.
Foi anunciado por Ann Kelleher da Intel que a “primeira luz” foi alcançada por uma ferramenta ASML High-NA em Veldhoven (que logo será seguida pela primeira ferramenta High-NA da Intel).
Na apresentação que assistimos, vimos um estranho conjunto de imagens de luz em forma de banana em um wafer que eram evidências da primeira luz EUV através de uma ferramenta recentemente montada.
Embora pareça simples, é um grande passo no caminho
Ann também deu uma excelente visão geral de onde a indústria e especificamente a Intel estava e reiterou o mantra dos cinco nós em quatro anos, que parece ser sublinhado por um progresso sólido. Foi uma das melhores palestras de visão geral que já vimos.
Homenagem a Gordon Moore
Houve também um elenco de “estrelas” de titãs da indústria que prestaram uma homenagem muito sincera ao falecido Gordon Moore, pai da “Lei de Moore” da indústria de semicondutores. Talvez o mais comovente tenha sido o de Craig Barrett, ex-CEO da Intel.
Foi um momento muito apropriado, já que High-NA representa a porta de entrada para a era Angstrom, o que é uma prova positiva da continuidade da vida e do legado da Lei de Moore e do seu progresso contínuo.
Nenhuma notícia “nova”
A conferência foi muito concorrida e recuperou ainda mais do que os seus máximos pré-covid. O número de apresentações de “pôsteres” pareceu mais que duplicar. No entanto, não houve grandes anúncios que movimentassem a indústria como em algumas conferências anteriores da SPIE.
Muitas das apresentações foram sobre um aspecto do EUV ou High-NA ou outro. O DUV foi deixado para trás junto com a litografia “I-Line” e outras tecnologias antigas. Fotorresiste, retículas, metrologia e outros acessórios para EUV foram a maioria dos tópicos das apresentações.
Uma história de “duas semifinais”
Ouvimos de várias pessoas na indústria de equipamentos e na cadeia de fornecimento que a Samsung desacelerou, cancelou ou atrasou muitos pedidos. Também parece que não é apenas o lado da memória da Samsung que está desacelerando, mas também o lado da lógica/fundição.
Parece bastante claro para nós que a memória ainda tem muito excesso de capacidade fabril e que a situação não melhorou muito ou pelo menos melhor o suficiente para iniciar a compra de capacidade.
O que é mais interessante é que o lado da fundição/lógica também é fraco. Poderíamos especular sobre a contínua fraqueza da fundição e apostaríamos que a TSMC provavelmente ganhará participação da Samsung durante este período mais fraco.
Já mencionamos isso antes, pois as fundições de segundo nível superam os negócios quando as coisas estão quentes e a TSMC não consegue atender a todos. Mas quando as coisas desaceleram, os clientes voltam para a TSMC. Vimos outras evidências disso com o declínio projetado pela GlobalFoundries, que poderia ser um prenúncio da fraqueza da fundição da Samsung.
Do outro lado da moeda, a Intel parece estar a todo vapor e indo na direção oposta à desaceleração dos gastos da Samsung.
Talvez a Intel esteja mais positiva enquanto a Samsung esfria as projeções para as projeções planas que ouvimos dos fabricantes de equipamentos de semicondutores relatando seu trimestre de dezembro
Applied continua a chamar a ferramenta SCULPTA etch de ferramenta de padronização -NÃO-
A Applied repetiu o desempenho de sua ferramenta de gravação chamada SCULPTA, que continua sendo considerada uma ferramenta de padronização, falando sobre isso na SPIE.
No ano passado, analistas idiotas destruíram as ações da ASML prevendo o fim do padrão duplo e a redução das vendas da ASML devido ao SCULPTA, o que obviamente não aconteceu, então não houve nenhuma reação estúpida e instintiva este ano... apenas um hum hum.
Um declínio “RÁPIDO”? Fótons são melhores que elétrons
Continuamos a manifestar preocupação e alertar sobre o rumo a longo prazo da divisão “RAPID” da KLA (inspeção de retículos) que foi um dos dois pilares fundadores da empresa.
Parece que a ferramenta de inspeção de retículo de feixe E 8xx, que provavelmente seria um espaço reservado provisório enquanto aguardava a inspeção Actinic atrasada 7xx, agora morreu em dois clientes importantes.
Também parece que o mercado óptico em que o 6xx atua tornou-se mais uma corrida de cavalos de commodities, o que impactou negativamente os preços.
Pelo lado positivo, parece que a tão esperada ferramenta 7xx Actinic pode estar perto de experimentar sua versão da “primeira luz” do EUV….luz no fim de um túnel muito longo.
Também pelo lado positivo do KLA, a suposta ferramenta de inspeção Zeiss Actinic que relatamos pela primeira vez parece um pouco exagerada com expectativas muito altas e pode ter dificuldades como sua primeira ferramenta de revisão “AIMS”.
Ainda pode ser uma corrida para ver quem consegue a segunda ferramenta Actinic do mercado, KLAC ou Zeiss, anos depois da ferramenta Lasertec. Fique atento.
Negócios arriscados na China
Há muito que alertamos sobre o risco e a exposição de 45% dos negócios de equipamentos semicondutores da indústria estarem na China. O risco é agravado pelo potencial de consequências de comportamento proibido.
No outono, foi relatado que a AMAT estava sob investigação por violar os regulamentos de exportação da China por meio de transporte cruzado para a China através da Coreia. Havíamos notado na época, e ninguém mais pareceu perceber, o risco adicional para os prêmios da lei CHIPS devido a comportamento potencialmente proibido.
Ontem, foi amplamente divulgado no noticiário que a Applied não apenas recebeu mais intimações em relação às preocupações originais, mas a investigação foi ampliada para agora incluir a SEC.
Como havíamos previsto, a empresa também acabou de informar que também recebeu intimações relacionadas a “certas solicitações de prêmios federais”, o que parece que os federais podem estar se perguntando sobre a Applied obter dinheiro da lei CHIPS se estiverem violando as restrições da China… isso poderia ser um "jogada Tripla"…..
Link para artigo da Reuters sobre intimações da AMAT
Os estoques
Não houve muitas notícias impactantes na SPIE esta semana, mas as outras notícias sobre a China sublinham claramente os riscos contínuos.
Também continuamos preocupados com o facto de a fraqueza da Samsung poder retardar qualquer recuperação esperada no segundo semestre do ano.
As ações em geral permanecem totalmente sobrevalorizadas em nossa opinião e continuam a ser varridas pelo tsunami da Nvidia/AI
Perguntamo-nos se ou quando os investidores começarão a separar as ações com maior ou menor exposição, especialmente se a recuperação demorar mais do que o prazo esperado para o final do ano.
O risco da China continua como uma nuvem sobre a indústria, conforme evidenciado pela Applied.
Embora ainda adoremos a Nvidia, e a possuamos pessoalmente, outras ações de semicondutores podem não merecer a mesma adoração simplesmente por estarem na mesma indústria de semicondutores.
Ainda gostamos da ASML, agora o maior fabricante de equipamentos, e da TSMC, de longe a maior e melhor fundição… mas ficamos um pouco mais exigentes à medida que avançamos na lista, especialmente nas avaliações de sangramento nasal.
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Leia também:
AMAT – Flattish QTR Flattish Guide – Melhorando 2024 – Aumento de memória e lógica, redução de ICAPs
KLAC- OK Quarter & flat guide- Esperançosamente recuperação em 2025- Big China % & Backlog
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- Fonte: https://semiwiki.com/semiconductor-services/342674-spie-let-there-be-light-high-na-kickoff-samsung-slows-rapid-decline/
