Zephyrnet-logo

Label: defect

Niet-EUV-blootstellingen in EUV-lithografiesystemen vormen de basis voor stochastische defecten in EUV-lithografie – Semiwiki

EUV-lithografie is een ingewikkeld proces waarbij veel factoren de productie van het uiteindelijke beeld beïnvloeden. Het EUV-licht zelf genereert niet direct de...

Top Nieuws

SPIE 2023 – imec bereidt zich voor op high-NA EUV – Semiwiki

In februari vond de SPIE Advanced Lithography Conference plaats. Ik had onlangs de gelegenheid om Steven Scheer, vice-president van Advanced Patterning Process...

MICLEDI demonstreert rode AlInGaP micro-LED's op CES, waarmee het portfolio van RGB micro-LED's wordt voltooid

Nieuws: LED's 6 januari 2023 MICLEDI Microdisplays BV uit Leuven, België – een fabelachtige ontwikkelaar van micro-LED-displaymodules voor augmented reality (AR)-brillen...

Diep leren in industriële inspectie

Deep learning bevindt zich aan de bovenkant van AI-complexiteit en doorzoekt meer gegevens om nauwkeurigere resultaten te bereiken. Charlie Zhu, vice-president van...

Laatste intelligentie

spot_img
spot_img